铁板神算,www.759333.com,六开彩开奖现场直播 开奖结果,夜明珠ymz01,37118报马网,38744.com,www.49331.com
您现在所在的位置是: 主页 > www.49331.com >

日本限制韩国EUV工艺关键材料 三星电子领先地位将受威胁

发布日期:2019-07-15 15:15   来源:未知   阅读:

  近日,日韩贸易战愈演愈烈,日本宣布氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching Gas)三种材料出口到韩国时不再给予优惠待遇,而且每次出货时出口商都必须获得许可,拿到许可大约需要90天时间。日本方面对此态度十分强硬,有分析人士指出,由日本独占市场的光罩基底(Mask Blank)也有可能成为下一个牺牲品,三星电子EUV工程可能因此受冲击。

  据《韩联社》报道,日本可能增加的限制品项包含集成电路(IC)、电源管理IC(PMIC)、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。值得注意的是,除EUV制程用的光刻胶没有其他替代品,日本企业在晶圆、光罩基底市场中,市占率非常高。日本的动向将直接影响到三星电子EUV工艺。

  目前,三星正处于和台积电的5nm工艺争霸的关键时刻,这对三星电子来说无疑是一个重大打击。此前三星曾拿到了英伟达GPU7nm芯片的订单,近日英伟达又出来澄清说不是三星独家代工,而是同时使用三星及台积电两家的7nm工艺。